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化学机械平面抛光

陕西西安 全部类型 2024年04月25日
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(略)2024年5月政府采购意向-(略) 详细情况
(略)
项目所在采购意向: (略)2024年5月政府采购意向
采购单位: (略)
采购项目名称: (略)
预算金额: (略)
采购品目:
(略)
采购需求概况 :
半导体材料(略),特别是晶圆刻蚀后,光波导上包层生长沉积工艺中,晶圆上存在高低起伏的形貌,无法对晶圆(略)。为实现大规模的三维光子芯片加工,或在晶圆上镀金形成电极实现光芯片的电子调控,就必须对晶圆的表面进行平坦化处理。实现该工艺的核心设备是化学机械抛光设备,因此,为完善平台工艺,新增化学机械抛光设备是完全必要的。
预计采购时间: (略)
备注:

本次公开(略),具体采购项目(略)。

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