多层膜结构光电样品制备设备

A****样品前处理及制备仪器

针对材料体系固有水氧敏感性与离子迁移特性，通过极限精度的原子层沉积技术实现界面钝化层的亚原子级均匀覆盖，从根本上抑制卤素空位引发的载流子非辐射复合，满足新一代高效率电池对开路电压与填充因子的双提升需求；磁控溅射工艺需在复杂曲率基板上构筑兼具超高透光率与超低方阻的透明电极网络，其能带结构需精确匹配光电活性层的载流子传输势垒，消除传统金属电极导致的能级错位损耗；飞秒激光刻划平台必须平衡热输入控制与加工精度，在避免光电材料热分解的前提下实现微米级绝缘沟槽的陡直形貌加工，确保串联组件边缘势垒的电子学完整性；自进化智能控制中枢需深度融合高密度传感器阵列的多物理场监测数据与量子效率谱、瞬态光电响应等表征结果，构建基于多场耦合仿真的载流子输运动力学模型，同步反演界面复合机制与体相衰减路径，最终形成“工艺参数-微观结构-服役性能”的全维度闭环优化体系。 多层膜结构光电样品制备设备功能： 1）有机蒸发模块：方形304不锈钢腔室，腔体尺寸：600*600*600 mm；基片尺寸156*156 mm。前门采用全自动控制（和手套箱集成时），后门采用手动铰链结构，两门均设有观察窗。腔室预留有照明和膜厚仪等设备接口。分子泵（抽气口径 DN200）+超高真空金密密封法兰接口；旋片泵+高真空气联动插板阀。带有旁抽系统，极限≤5×10-4Pa、从大气抽至5×10-4Pa≤15min；有机水冷蒸发源共计6组，热阻式。蒸发源采用相同的电极引入结构，可以互换使用。配左右开启挡板与隔板，用于材料蒸发。膜厚匀性：士5%。 2）金属电子束模块：方形304不锈钢腔室，尺寸：600*600*600mm。前门采用全自动控制（和手套箱集成时），后门采用手动铰链结构，两门均设有观察窗。腔室预留有照明和膜厚仪等设备接口。分子泵（抽气口径 DN200）+超高真空金密密封法兰接口；旋片泵+高真空气联动插板阀。带有旁抽系统、极限≤5×10-4Pa。 3）磁控溅射模块，溅射不均匀性≤士5%。 4）ALD模块：腔室：加热器置于真空腔室外的水平流时间型 ALD。 反应腔室：样品台可放下最大8英寸晶圆，配有2 套载板；反应温度：最高150°C，温度控制精度士1°C；金属源1路，可用于TDMASn、TMA 等源；配置高温快速 ALD阀（响应时间＜10ms）、手动阀、50ml不锈钢源瓶，源瓶及管路加热温度。