自动光电薄膜制备设备

A****样品前处理及制备仪器

通过集成超高纯密闭环境防护、突破常规精度极限的物质精密计量与分配系统、精密协同的多级运动控制以及超稳定宽范围热场调控能力，实现从微小基底阵列高通量制备的前道物料精密处理、高转速多段编程旋涂成膜，直至精准温控热处理的全流程自动化、高精度、零人工干预操作。此设备成功规避了人为因素干扰和环境波动，在原子级洁净基底上实现了膜层均匀性与批次重复性的数量级提升，微观缺陷得到显著抑制，为深入探索钙钛矿材料内在机理，攻克其稳定性与效率核心挑战，并最终开发面向规模量产的颠覆性工艺体系，提供了此前无法企及的、具有超高置信度和可量化研究能力的实验载体。 自动光电薄膜制备设备功能： 1）功能需求： 集成自动滴液泵（滴液精度±1μL，支持抗溶剂同步注入）。 闭环温控系统（基底温度控制±1°C，湿度控制±2% RH）。 多程序联动（如预旋涂→高速甩膜→退火一体化）。 2）工艺精度要求： 转速稳定性≤±0.5%（如4000 rpm时波动≤±20 rpm）。 膜厚均匀性偏差≤±3%（SEM验证）。