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点击登录查看2025年10月政府采购意向-反应离子刻蚀设备 详细情况
| 反应离子刻蚀设备 | |
| 项目所在采购意向： | 点击登录查看2025年10月政府采购意向 |
| 采购单位： | 点击登录查看 |
| 采购项目名称： | 反应离子刻蚀设备 |
| 预算金额： | 540.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A****其他仪器仪表 |
| 采购需求概况 ： | 反应离子刻蚀设备，2台，反应离子刻蚀设备要求为：1）工作压力范围：1 Pa 至 10 Pa；2）刻蚀分辨率：≤ 50 nm；3）射频功率范围：100 W 至 1000 W；4）支持基片尺寸：150 mm；5）刻蚀均匀性：≤ ±3%。供货期：签订合同之日起，24个月货到采购人指定地点并安装验收完毕。具体事宜由成交供应商按采购人指定地点及时间安排要求执行。 |
| 预计采购时间： | 2025-10 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
